发明名称 化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头
摘要 本实用新型涉及一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜及承载头,上述化学机械抛光装置用承载头的隔膜包括:底板,由可挠性材质形成为板状,并对晶片的板面进行加压;侧壁,由可挠性材质形成,并从上述底板的边缘部分向上侧延伸而成,在上述侧壁的上侧形成加压腔室的底面的一部分以上;以及内侧环,由硬度高于上述可挠性材质的材质形成,并与上述侧壁的内周面相结合来传递从上述加压腔室向上述晶片的边缘区域传递的作用力,本实用新型的化学机械抛光装置用承载头的隔膜起到作为利用基于最外侧压力腔室的膨胀来固定隔膜侧壁的内侧环,并从加压腔室向晶片传递加压力的媒介的作用,能够在整个晶片的边缘区域整体性地导入均匀的加压力。
申请公布号 CN204954606U 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201520677729.2 申请日期 2015.09.01
申请人 K.C.科技股份有限公司 发明人 孙准皓;金昶一;金相一
分类号 B24B37/34(2012.01)I 主分类号 B24B37/34(2012.01)I
代理机构 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人 姜虎;陈英俊
主权项 一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,包括:底板,由可挠性材质形成为板状,并对晶片的板面进行加压;侧壁,由可挠性材质形成,并从上述底板的边缘部分延伸而成,在上述侧壁的上侧形成加压腔室的底面的一部分以上;以及内侧环,由硬度高于上述可挠性材质的材质形成,并与上述侧壁的内周面相结合,以传递从上述加压腔室向上述晶片的边缘区域传递的作用力。
地址 韩国京畿道