发明名称 有机膜形成装置以及有机膜形成方法
摘要 本发明提供一种使有机材料附着之后,使成膜对象物静止,固化有机材料,能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽(11)内配置的基板台(14)上配置成膜对象物(5),在成膜对象物(5)的表面接触配置掩模(31),冷却成膜对象物(5),将真空槽(11)内进行真空排气的同时,从掩模(31)上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料,并使其附着于在掩模(31)的开口(34)底面露出的成膜对象物(5)的表面,在附着的部分形成光反应性材料的液状膜,在停止了真空槽(11)内的真空排气的状态下,在放射光的光照射装置(24)中,使光放射的同时,在掩模上移动,使液状膜固化,形成光反应性材料的有机膜。
申请公布号 CN103154303B 申请公布日期 2016.01.06
申请号 CN201180050603.7 申请日期 2011.10.19
申请人 株式会社爱发科 发明人 内田一也;大森大辅;宫内淳
分类号 C23C14/12(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H05B33/10(2006.01)I 主分类号 C23C14/12(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 毛立群;李浩
主权项 一种有机膜形成方法,其为将当照射光时进行固化的光反应性材料的有机膜形成在成膜对象物的表面的有机膜形成方法,在真空槽内配置的基板台上配置所述成膜对象物,使掩模接触所述成膜对象物的表面进行配置,冷却所述成膜对象物,将所述真空槽内进行真空排气的同时,从所述掩模的上方,向所述掩模上喷出所述光反应性材料,并使所述光反应性材料附着于在所述掩模的开口底面露出的所述成膜对象物的表面,在附着的部分形成所述光反应性材料的液状膜,在使所述真空槽内的真空排气停止并冷却所述成膜对象物使所述液状膜的膜厚值不减少的状态下,使放射光的光照射装置在所述掩模上移动的同时放射所述光,使所述光入射到位于露出于所述开口底面的所述成膜对象物表面上的所述液状膜,并使所述液状膜固化,形成所述光反应性材料的有机膜。
地址 日本神奈川县