| 发明名称 | 阵列基板的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板的制造方法，属于显示技术领域，解决了现有技术中有机膜层容易脱落的技术问题。该阵列基板的制造方法包括：形成半导体层、栅极绝缘层、栅极金属层、间绝缘层和源漏极金属层；对所述源漏极金属层和所述间绝缘层的表面进行清洗；对所述源漏极金属层和所述间绝缘层的表面进行灰化；在所述源漏极金属层和所述间绝缘层上形成有机膜层。 | ||
| 申请公布号 | CN105206617A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510531299.8 | 申请日期 | 2015.08.26 |
| 申请人 | 武汉华星光电技术有限公司 | 发明人 | 杨元隆 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人 | 朱绘;徐彦圣 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制造方法，包括：形成半导体层、栅极绝缘层、栅极金属层、间绝缘层和源漏极金属层；对所述源漏极金属层和所述间绝缘层的表面进行清洗；对所述源漏极金属层和所述间绝缘层的表面进行灰化；在所述源漏极金属层和所述间绝缘层上形成有机膜层。 | ||
| 地址 | 430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 | ||