发明名称 用于反射镜的热致动的装置
摘要 本发明涉及一种尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的热致动装置,所述反射镜包含反射镜基板(102,202)和光学有效表面(101,201)以及至少一个进入通道(110,111,112,210),其从所述反射镜(100)的不对应于光学有效表面的表面延伸在该有效表面(101,201)的方向上,其中具有可变设定的冷却功率的冷却元件(120,220)突出进至少一个进入通道(110,111,112,210)中,以及其中提供用于将可变设定的加热功率耦合进反射镜基板(102,202)邻近光学有效表面的区域中的至少一个热源;其中通过设定冷却元件(120,220)的冷却功率以及至少一个热源的加热功率,光学有效表面(101,201)与反射镜(100)不对应于光学有效表面的所述表面之间的热通量是可实现的,所述热通量导致反射镜基板(102,202)中的温度梯度以及热膨胀系数值的相关局部变化。
申请公布号 CN105190443A 申请公布日期 2015.12.23
申请号 CN201480014966.9 申请日期 2014.03.07
申请人 卡尔蔡司SMT有限责任公司 发明人 M.豪夫
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 邱军
主权项 用于尤其是微光刻投射曝光设备中的光学系统中的反射镜的热致动的装置,所述反射镜具有反射镜基板(102,202)和光学有效表面(101,201)以及至少一个进入通道(110,111,112,210),所述至少一个进入通道在该有效表面(101,201)的方向上从所述反射镜(100)的不对应于所述光学有效表面的表面延伸,其中,具有能够可变地设定的冷却功率的冷却元件(120,220)突伸进所述至少一个进入通道(110,111,112,210)中;并且其中,提供至少一个热源,用于将能够可变地设定的加热功率耦合进所述反射镜基板(102,202)的邻近所述光学有效表面的区域中;其中,通过设定所述冷却元件(120,220)的冷却功率和所述至少一个热源的加热功率,能够实现所述光学有效表面(101,201)与所述反射镜(100)的不对应于所述光学有效表面的所述表面之间的热通量,所述热通量导致所述反射镜基板(102,202)中的温度梯度和热膨胀系数值的相关局部变化。
地址 德国上科亨