| 发明名称 | 曝光方法以及曝光装置 | ||
| 摘要 | 本发明的曝光装置对于通过基板搬运单元(5)以一定速度向一定方向搬运的基板(4)，在曝光部位(曝光部分)(2)通过在曝光光学系统(3)的光轴(光程)(S)上设置的掩膜(11)照射来自灯(连续光源)(9)的曝光光。在基板(4)上转印并曝光掩膜(11)的开口部分(11a)的图像时，由摄像单元(6)的线性CCD(20)拍摄在基板(4)上预先形成的像素(基准图案)(18)的前方边缘以及侧方边缘(图案边缘)，检测出基板(4)上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置。在由摄像单元(6)拍摄的像素(18)从摄像位置(F)被移动到曝光位置(E)时，曝光部位(2)一边对掩膜(11)进行位置调节以使掩膜(11)的位置与基板(4)上的基准位置一致，一边对沿基板(4)的搬运方向的曝光区域进行连续曝光。 | ||
| 申请公布号 | CN101460897A | 申请公布日期 | 2009.06.17 |
| 申请号 | CN200680054845.2 | 申请日期 | 2006.06.07 |
| 申请人 | 集成方案株式会社 | 发明人 | 饭野仁 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B5/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄小临 |
| 主权项 | 1、一种曝光方法，包括：通过基板搬运单元以一定速度向一定方向搬运基板的步骤；用摄像单元拍摄在所述基板上预先形成的基准图案的图案边缘，从而检测基板上的搬运方向和与该搬运方向成直角的方向中的基准位置的步骤；对掩膜进行位置调节使得在由所述摄像单元拍摄的基准图案通过所述基板搬运单元从摄像位置被移动到曝光位置时，所述掩膜的位置与所述基板上的所述基准位置一致的步骤；以及在所述曝光位置中通过在曝光光学系统的光程上设置的掩膜照射来自连续光源的曝光光，并在所述基板上转印所述掩膜的开口部分的图像的步骤，所述曝光方法对沿所述基板的搬运方向的曝光区域连续曝光。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||