发明名称 |
一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法,其特征在于:采用TE/TM线偏振光为入射光,入射角为被测掩模的闪耀角,分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D<SUB>0</SUB>(λ);被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ);采用比较法,计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布R<SUB>g</SUB>(λ),对其进行光谱反演,得到掩模的槽形参数:光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测;且可以避免测量系统的误差,对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求,测量方法简单易行。 |
申请公布号 |
CN101377413A |
申请公布日期 |
2009.03.04 |
申请号 |
CN200810156859.6 |
申请日期 |
2008.09.28 |
申请人 |
苏州大学 |
发明人 |
陈新荣;吴建宏;李朝明 |
分类号 |
G01B11/25(2006.01);G01B11/06(2006.01);G01B11/22(2006.01);G01B11/02(2006.01) |
主分类号 |
G01B11/25(2006.01) |
代理机构 |
苏州创元专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
陶海锋 |
主权项 |
1.一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法,其特征在于:采用TE/TM线偏振光为入射光,入射角为被测掩模的闪耀角,包括如下步骤:(1)将标准反射片置于样品架上,并将标准反射片的反射光用透镜聚焦至光谱仪的入射狭缝,测量该反射光的光谱分布D0(λ);(2)将被测掩模置于样品架上,将被测掩模的反射衍射零级复色光聚焦至光谱仪的入射狭缝,测量该反射衍射零级光的光谱分布D(λ);(3)根据下列公式,D(λ)=I0(λ)·Rg(λ)·T(λ)D0(λ)=I0(λ)·R0(λ)·T(λ)式中,I0(λ)是入射线偏振光的辐射功率分布,T(λ)是光谱测量系统的光谱传递函数,R0(λ)是标准反射片的反射率;采用比较法,计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ),对其进行光谱反演,得到掩模的槽形参数:光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。 |
地址 |
215123江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路199号 |