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发明名称 Method for inspecting defects in photomask
摘要
申请公布号 KR100945937(B1) 申请公布日期 2010.03.05
申请号 KR20080040096 申请日期 2008.04.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;H01L21/66 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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