METHOD FOR REMOVING AT LEAST SECTIONS OF A LAYER OF A LAYER STACK
摘要
<p>Bei einem Verfahren zum zumindest bereichsweisen Entfernen zumindest einer Halbleiterschicht (4) eines Schichtenstapels (1) wird eine optisch dichte Metallisierungsschicht (3) derart erwärmt, dass die darüber liegende Halbleiterschicht abgelöst wird.</p>
申请公布号
WO2011066930(A1)
申请公布日期
2011.06.09
申请号
WO2010EP07221
申请日期
2010.11.29
申请人
MANZ AUTOMATION AG;MOLDOVAN, VASILE RAUL;NEUGEBAUER, CHRISTOPH TOBIAS
发明人
MOLDOVAN, VASILE RAUL;NEUGEBAUER, CHRISTOPH TOBIAS
