一种对基体表面进行超疏水改性处理实现自清洁的方法

摘要

一种对基体表面进行超疏水改性处理实现自清洁的方法：1)将无机基体清洗，烘干，放至室温；2)将步骤1处理的无机基体紫外线照射；3)在无机基体上制备超疏水涂层，制得具有超疏水性能的自清洁表面。基体为聚合物基体时，先在该聚合物基体上制备硅烷缓冲层，然后操作上述步骤2和步骤3。三蒸水在本发明制备的基体表面的接触角可达到150°，此超疏水涂层可有效地防止杂质污染，实现自清洁。超疏水涂层具有良好的稳定性。

主权项

一种对无机基体表面进行超疏水改性处理实现自清洁的方法，主要步骤如下：1)将无机基体清洗，烘干，放至室温；2)将步骤1处理的基体紫外线照射；3)在无机基体上制备超疏水涂层：将步骤2处理的无机基体浸入体积浓度为0.5‑5％的三氯硅烷/甲苯溶液中1‑60分钟，取出，用甲苯清洗，于90‑120℃下加热5‑10分钟，放至室温，即制得具有超疏水性能的自清洁表面。