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一种熔射方法，系对于金属体熔射金属熔射材料形成防腐用熔射皮膜的熔射方法，其特征为，包含：使用研磨工具进行粗糙面化处理使被熔射体表面的平均粗糙度Ra形成2~10μm范围的工程，及熔射材料的熔融粒子附着在被熔射体的表面时的上述熔融粒子每1粒子的平均面积为10000~100000μm2的条件下进行熔射的工程。如申请专利范围第1项记载的熔射方法，其中是使用电浆熔射法进行上述熔射。如申请专利范围第2项记载的熔射方法，其中是使用线形或棒形金属熔射材料的熔射装置作为电浆熔射装置。如申请专利范围第1项记载的熔射方法，其中是使用铝合金或铝-镁合金或锌铝合金等的铝合金作为上述金属熔射材料。如申请专利范围第2项记载的熔射方法，其中是使用铝合金或铝-镁合金或锌铝合金等的铝合金作为上述金属熔射材料。如申请专利范围第3项记载的熔射方法，其中是使用铝合金或铝-镁合金或锌铝合金等的铝合金作为上述金属熔射材料。如申请专利范围第1项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。如申请专利范围第2项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。如申请专利范围第3项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。如申请专利范围第4项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。如申请专利范围第5项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。如申请专利范围第6项记载的熔射方法，其中包含在熔射被膜形成后进行封孔处理的工程。 |
