发明名称 低温电浆装置
摘要
申请公布号 申请公布日期 2011.09.21
申请号 TW100207654 申请日期 2011.04.29
申请人 亞太電漿有限公司 发明人 陈雄泉
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人
主权项 一种低温电浆装置,系设置有电浆蚀刻反应炉、支架组、导管组以及冷却器,其中:该电浆蚀刻反应炉系设置有操控电浆蚀刻反应炉运作之控制系统,且电浆蚀刻反应炉内具有腔体,腔体开口处设置有腔门;该支架组设置有复数间隔并排之支撑板,支撑板为设置于腔体内,支撑板为由具温度传导系数较佳之材质所制成;该导管组系设置有二岐管,并于二岐管之间连接有复数导管,导管为固定于支撑板一侧表面,且导管表面为与支撑板形成直接接触;该冷却器系设置有冷却装置以及泵浦,且冷却器为连接于岐管,俾使冷却器藉由泵浦将冷却液循环导入导管组,使导管迅速吸收支撑板之热能,使支撑板降温。
地址 新北市林口区仁爱路2段237号9楼之1 TW