| 摘要 |
<p>본 발명은 기판을 처리하는 기판 처리장치로서, 내부에 공간을 형성하는 챔버와, 상기 챔버에 설치되고 상기 챔버 내부에서 상기 기판을 지지하는 기판 지지대, 상기 챔버의 상측에 상기 기판 지지대와 대향 배치되고 상기 기판에 공정가스를 분사하는 공정가스 분사부, 및 상기 챔버의 측면에 연결되고 상기 챔버 내부로 세정가스를 분사하는 세정가스 분사부를 포함하고, 증착물의 축적 정도가 심한 영역을 향해 세정가스를 분사하여 증착물을 효과적으로 제거할 수 있는 기판 처리장치 및 이의 세정방법에 관한 것이다.</p> |
