发明名称 |
一种波状PIN电光调制器结构 |
摘要 |
本发明公开的一种波状PIN电光调制器结构,包括有N-Sub型衬底,N-Sub型衬底的上部设置有SiO<sub>2</sub>埋层,SiO<sub>2</sub>埋层上部的两侧各设置分别设置有波状P+阱区、波状N+阱区,SiO<sub>2</sub>埋层上部的波状P+阱区、波状N+阱区之间设置有本征N型调制区,波状P+阱区的上部配设有第一电极,波状N+阱区的上部配设有第二电极,第一电极、本征N型调制区及第二电极的上部覆盖有SiO<sub>2</sub>覆盖层。本发明的波状PIN电光调制器结构,不仅有效降低PIN电光调制器的发热,抑制热光效应对PIN电光调制器的影响,还能高载流子注入,增强等离子色散效应。 |
申请公布号 |
CN105137620A |
申请公布日期 |
2015.12.09 |
申请号 |
CN201510603240.5 |
申请日期 |
2015.09.21 |
申请人 |
西安工程大学 |
发明人 |
冯松;薛斌;李连碧;雷倩倩;宋立勋;翟学军;朱长军 |
分类号 |
G02F1/015(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/015(2006.01)I |
代理机构 |
西安弘理专利事务所 61214 |
代理人 |
罗笛 |
主权项 |
一种波状PIN电光调制器结构,其特征在于,包括有N‑Sub型衬底(8),所述N‑Sub型衬底(8)的上部设置有SiO<sub>2</sub>埋层(7),所述SiO<sub>2</sub>埋层(7)上部的两侧各设置分别设置有波状P+阱区(1)、波状N+阱区(3),所述SiO<sub>2</sub>埋层(7)上部的波状P+阱区(1)、波状N+阱区(3)之间设置有本征N型调制区(2),所述波状P+阱区(1)的上部配设有第一电极(4),所述波状N+阱区(3)的上部配设有第二电极(5),所述第一电极(4)、本征N型调制区(2)及第二电极(5)的上部覆盖有SiO<sub>2</sub>覆盖层(6)。 |
地址 |
710048 陕西省西安市金花南路19号 |