发明名称 |
一种低温制备高效柔性铜铟镓硒薄膜太阳电池的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种低温制备高效柔性铜铟镓硒薄膜太阳电池的方法,包括如下步骤:步骤一、通过直流磁控溅射沉积系统在柔性衬底上沉积厚度范围为500nm至700nm的Mo作为背电极,其中:Mo为双层结构,高阻Mo层的厚度范围为100nm至150nm;在高阻Mo层上再沉积厚度范围为400nm至550nm的低阻Mo层,作为电池的背电极;步骤二、利用电子束蒸发设备,采用0.1kw的电子束蒸发功率,50分钟的时间,在Mo背电极上蒸发一层12nm厚的锑薄膜;步骤三、在上述锑薄膜上采用共蒸发方法制备铜铟镓硒吸收层;步骤四、在上述铜铟镓硒吸收层上制备铜铟镓硒薄膜太阳电池。 |
申请公布号 |
CN105118872A |
申请公布日期 |
2015.12.02 |
申请号 |
CN201510430524.9 |
申请日期 |
2015.07.21 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第十八研究所 |
发明人 |
申绪男;赵岳;王胜利;赖运子;刘帅奇;赵彦民;乔在祥 |
分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/032(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/0224(2006.01)I |
代理机构 |
天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 |
代理人 |
李凤 |
主权项 |
一种低温制备高效柔性铜铟镓硒薄膜太阳电池的方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤一、在柔性衬底上制作背电极;具体为:通过直流磁控溅射沉积系统在柔性衬底上沉积厚度范围为500nm至700nm的Mo作为背电极,其中:Mo为双层结构,接近衬底的一层为高阻Mo层,上述高阻Mo层的厚度范围为100nm至150nm;在上述高阻Mo层上再沉积厚度范围为400nm至550nm的低阻Mo层,作为电池的背电极;步骤二、在上述背电极上采用电子束蒸发的方法制备锑薄膜;具体为:利用电子束蒸发设备,采用0.1kw的电子束蒸发功率,50分钟的时间,在制备好的Mo背电极上蒸发一层12nm厚的锑薄膜;步骤三、在上述锑薄膜上采用共蒸发方法制备铜铟镓硒吸收层;具体为:采用共蒸发三步法在背电极上制作铜铟镓硒吸收层,其中,上述三步法中的第一步衬底温度在250℃‑300℃范围,第二步和第三步衬底温度在350℃‑380℃范围内;步骤四、在上述铜铟镓硒吸收层上制备铜铟镓硒薄膜太阳电池;具体为:在铜铟镓硒薄膜上面自下至上依次制作缓冲层CdS层;i‑ZnO层;透明窗口层;减反射层和栅线电极。 |
地址 |
300384 天津市西青区海泰工业园华科七路6号 |