| 发明名称 | 碳化硅基板研磨用组合物和碳化硅基板的研磨方法 | ||
| 摘要 | 一种碳化硅基板研磨用组合物，是用于研磨碳化硅基板表面的碳化硅基板研磨用组合物，含有真比重为2.10~2.30的胶态二氧化硅粒子和水，游离的碱金属离子的浓度为1ppm~150ppm。 | ||
| 申请公布号 | CN102947919B | 申请公布日期 | 2015.11.25 |
| 申请号 | CN201180029121.3 | 申请日期 | 2011.06.21 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 关口和敏;西村透 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I;B24B37/04(2012.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 李照明;段承恩 |
| 主权项 | 一种碳化硅基板研磨用组合物，其特征在于，是用于研磨碳化硅基板表面的碳化硅基板研磨用组合物，含有真比重为2.10～2.30的、采用水玻璃法得到的胶态二氧化硅粒子、水和氧化剂，游离的碱金属离子的浓度为1ppm～150ppm，pH值低于4，作为所述胶态二氧化硅粒子，含有平均一次粒径为20nm～500nm的胶态二氧化硅粒子和平均一次粒径为5nm以上且低于20nm的胶态二氧化硅粒子。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||