具气帘之可移动微腔室系统

主权项

一种微腔室系统，用以加工一基板且该基板不会暴露于一环境之一反应气体，该微腔室系统包含：一顶部构件，具有至少一光入口特征；一载台组件，支撑该基板，该载台组件具有一外周缘且相对于该顶部构件设置以定义一微腔室与一微腔室周边间隙，其中该微腔室周边间隙具有一宽度，该宽度系在0.01mm至2mm之范围中，该载台组件可相对于该顶部构件移动，其中该微腔室包含一气体，该气体包含一选择量之该反应气体或者无实质量之该反应气体；及至少一气体供应系统，气体连接于该载台组件，设置以维持来自该至少一气体供应系统之气体流入该微腔室周边间隙，惟有当该载台组件相对于该顶部构件移动时，始于相邻于该载台组件之该外周缘处形成一气帘，且该气帘实质上避免该环境之该反应气体进入该微腔室。