用于化学机械研磨垫的调节的方法及设备

摘要

本文提供了一种用于调节研磨垫的方法与设备。在一实施例中，提供了一种用于基板研磨处理的垫片调节装置。该垫片调节装置包括光学装置，该光学装置耦接至研磨站中邻近于研磨垫的一部分，该光学装置包括激光发射器，用以对研磨垫的研磨表面发出光束，该光束具有与研磨处理中所使用的研磨流体实质上不反应、但与研磨垫反应的波长范围。

主权项

一种用于基板研磨处理的垫片调节装置，所述垫片调节装置包括：光学装置，耦接至邻近于研磨垫的研磨站的一部分，所述光学装置包括激光发射器以向所述研磨垫的研磨表面发出光束，所述光束具有与所述研磨处理中所使用的研磨流体实质上不反应、但与所述研磨垫反应的波长范围。