一种二极管腐蚀清洗工艺

摘要

本发明涉及一种二极管腐蚀清洗工艺，所述清洗工艺依次为腐蚀、钝化、钝化杂质清洗、热水冲洗浸泡以及超声清洗,其中腐蚀为通过化学腐蚀方式去除芯片侧面因切割而产生的损伤层,钝化为通过化学反应方式钝化芯片侧面，使芯片侧面形成钝化保护层，钝化表面杂质清洗为通过化学反应方式去有机杂质，金属离子，颗粒沾污。本发明的优点在于：在超声清洗工序之前，添加热水冲水浸泡工艺，使得吸附在芯片钝化层表面的有机杂质、金属离子以及颗粒沾污物质因热量因素加速溶解，提升后续超声清洗效果，从而降低因芯片表面沾污而导致的产品漏电流，提升产品的良率及可靠性。

主权项

一种二极管腐蚀清洗工艺，其特征在于：所述清洗工艺依次为腐蚀、钝化、钝化杂质清洗、热水冲洗浸泡以及超声清洗,其中腐蚀为通过化学腐蚀方式去除芯片侧面因切割而产生的损伤层,钝化为通过化学反应方式钝化芯片侧面，使芯片侧面形成钝化保护层，钝化表面杂质清洗为通过化学反应方式去有机杂质，金属离子，颗粒沾污；热水冲水浸泡工艺使得吸附在芯片钝化层表面的有机杂质、金属离子以及颗粒沾污物质因热量因素加速溶解，超声清洗工位为利用超声空化原理，对钝化表面杂质进行二次清洗。