发明名称 位移侦测装置
摘要
申请公布号 TWI507760 申请公布日期 2015.11.11
申请号 TW100121345 申请日期 2011.06.20
申请人 德马吉森精机股份有限公司 发明人 田宫英明
分类号 G02B9/02;G01D5/38 主分类号 G02B9/02
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;丁国隆 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 一种位移侦测装置,包括:一大致板状之绕射光栅,适用于使光绕射;一光栅干涉仪,适用于将光照射在该绕射光栅,其中照射光绕射成两个光束,使绕射光之该两个光束彼此干涉,且产生一干涉信号;及一相对位置资讯输出部,适用于根据由该光栅干涉仪产生的该干涉信号侦测该绕射光栅的相对位置资讯,其中,该光栅干涉仪包含:一光源,适用于将光照射在该绕射光栅上,垂直于该绕射光栅;两个反射器,适用于反射被该绕射光栅绕射一次的两个一次绕射光,且使被反射的该一次绕射光在一与来自该光源的光所照射之点大致相同的位置再度入射在该绕射光栅上;每一反射镜包括第1镜和第2镜,该第1镜系在与该一次绕射光的入射方向不同的方向上反射藉由该绕射光栅绕射一次的该一次绕射光,该第2镜系将藉由该第1镜反射的该一次绕射光朝向该绕射光栅反射,使得该一次绕射光在一与来自该光源的光所照射之点大致相同的位置再度入射在该绕射光栅上;且该1镜及该第2镜系配置成,藉由该第2镜所反射而朝向该绕射光栅的该一次绕射光系以一不同于光从该光源入射到该绕射光栅的入射角度且不同于藉由该绕射光栅绕射一次的该一次绕射光被传送通 过该绕射光栅或被反射远离该绕射光栅而朝向该第1反射镜的角度之角度,入射在该绕射光栅上,藉此,被该第2镜反射而朝该绕射光栅行进的该一次绕射光通过的光路径是不同于藉由该绕射光栅绕射一次且被反射远离该绕射光栅而朝向该第1镜之该一次绕射光通过的光路径,且不同于从该光源入射到该绕射光栅的入射光通过的光路径;一分光器,适用于将被该绕射光栅绕射两次的两个二次绕射光彼此重合;及一接收器,适用于接收被该分光器彼此重合的二次绕射光,以产生该干涉信号。
地址 日本
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