发明名称 具有改良温度均匀性的加热平台;HEATED PLATEN WITH IMPROVED TEMPERATURE UNIFORMITY
摘要 本发明大体上描述一种具有改良温度均匀性的加热平台。各种实例提供平台部分,其具有与其热耦合的金属化层。电接触件可连接到金属化层并被配置成传导用于加热金属化层以及平台部分的电流。电接触件可包含电导体以及电阻加热元件,电阻加热元件被配置成当电流流过其时将加热,从而产生减少从平台部分吸收到电接触件中的热量的热块。
申请公布号 TW201542028 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW104104644 申请日期 2015.02.12
申请人 瓦里安半导体设备公司 VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. 发明人 费许 罗杰B FISH, ROGER B.;恩尔拉 史蒂芬 ANELLA, STEVEN
分类号 H05B3/30(2006.01);H05B3/20(2006.01) 主分类号 H05B3/30(2006.01)
代理机构 代理人 叶璟宗郑婷文詹富闵
主权项
地址 美国 US