| 发明名称 |
SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, SUBSTRATE, AND MASK FILM |
| 摘要 |
기판 본체(11)의 적어도 한쪽의 면에, 에폭시계 수지와 아크릴 수지의 혼합 수지로 이루어지는 솔더 레지스트 잉크를 도포하여 솔더 레지스트층(20)을 형성하고, 이 솔더 레지스트층(20)을 자외선으로 조사(照射)하며, 솔더 레지스트층(20)의 미리 정해진 부분에 조사되는 자외선의 조사량을 조정함으로써, 그 미리 정해진 부분을 투명하게 한다. |
| 申请公布号 |
KR20150120421(A) |
申请公布日期 |
2015.10.27 |
| 申请号 |
KR20157025148 |
申请日期 |
2014.02.26 |
| 申请人 |
TOKAI SHINEI ELECTRONICS INDUSTRY CO., LTD.;SAITO TADAYOSHI;YAMATOYA & CO., LTD. |
发明人 |
TSUGE KAZUNORI;TANAKA YOSHIHITO;AKIYAMA KOJI;TANAKA KIYOSHI;NISHIO KAZUYOSHI;KATO TAKEHIRO;MURAKAMI MASARU;SAITO TADAYOSHI;YOSHIMURA HIROTOSHI;INOUE AKIRA;NUMAKURA IWAO;TSUKADA NORIAKI |
| 分类号 |
H01L23/498;G03F7/11;G03F7/20;H01L21/02;H05K1/02;H05K3/28;H05K3/34 |
主分类号 |
H01L23/498 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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