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经营范围
发明名称
曝光装置、曝光管理系统及曝光方法
摘要
申请公布号
TWI503634
申请公布日期
2015.10.11
申请号
TW101130717
申请日期
2012.08.23
申请人
东芝股份有限公司
发明人
石行一贵
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种曝光装置,其包括:取得部,其取得对相互不同之复数个偏焦量进行测量而得之复数个测量值、即分别表示曝光照射区域内之位置偏移分布之上述复数个测量值;及计算部,其自上述复数个测量值求出复数个失真误差,根据上述复数个偏焦量及上述复数个失真误差,求出偏焦量与用以修正失真误差之对准修正值之相关关系。
地址
日本
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