发明名称 曝光装置、曝光管理系统及曝光方法
摘要
申请公布号 TWI503634 申请公布日期 2015.10.11
申请号 TW101130717 申请日期 2012.08.23
申请人 东芝股份有限公司 发明人 石行一贵
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种曝光装置,其包括:取得部,其取得对相互不同之复数个偏焦量进行测量而得之复数个测量值、即分别表示曝光照射区域内之位置偏移分布之上述复数个测量值;及计算部,其自上述复数个测量值求出复数个失真误差,根据上述复数个偏焦量及上述复数个失真误差,求出偏焦量与用以修正失真误差之对准修正值之相关关系。
地址 日本