发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI502740 申请公布日期 2015.10.01
申请号 TW099141728 申请日期 2010.12.01
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 山崎舜平
分类号 H01L29/78;H01L29/04;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种半导体装置,包含:在绝缘表面上之包括结晶区域的氧化物半导体层;与该氧化物半导体层电接触的源极电极层和汲极电极层;覆盖该氧化物半导体层、该源极电极层、和该汲极电极层的闸极绝缘层;以及在该结晶区域上的闸极电极层,且该结晶区域和该闸极电极层之间夹有该闸极绝缘层,其中该结晶区域包括c轴对准于实质垂直于该氧化物半导体层的表面之方向的晶体。
地址 日本