| 发明名称 | 用于提高氧化物移除速率的镓与铬离子 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学-机械抛光组合物，其包含二氧化硅；其量足以提供0.2mM至10mM的选自镓(III)、铬(II)及铬(III)的金属阳离子的化合物；及水，其中该抛光组合物具有1至6的pH值。本发明进一步提供一种用前述抛光组合物化学-机械抛光基板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101490204A | 申请公布日期 | 2009.07.22 |
| 申请号 | CN200780027264.4 | 申请日期 | 2007.07.10 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 斯蒂芬·格鲁姆比尼 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 宋 莉 |
| 主权项 | 1. 一种化学-机械抛光组合物，其包含：(a)二氧化硅，(b)其量足以提供0.2mM至10mM的选自镓(III)、铬(II)及铬(III)的金属阳离子的化合物，及(c)水，其中该抛光组合物具有1至6的pH值。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||