| 发明名称 | 等离子反应腔室及其改善等离子体分布均匀性的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种等离子反应腔室及其改善等离子体分布均匀性的方法，反应腔室的侧壁预埋有三组线圈，三组线圈可连接三相交流电。三相交流电可以在等离子反应腔室内产生旋转磁场，而等离子体具有一定的电导率和磁导率，在旋转磁场的作用下，等离子体中的带电粒子做与旋转磁场同方向的圆周运动，促进等离子体均匀分布，能很好的改善等离子体分布的均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN101409974A | 申请公布日期 | 2009.04.15 |
| 申请号 | CN200710175814.9 | 申请日期 | 2007.10.12 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 申浩南;白美林;张文雯;周凯 |
| 分类号 | H05H1/46(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | H05H1/46(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇 |
| 主权项 | 1、一种等离子反应腔室，其特征在于，所述的等离子反应腔室设有三组线圈，所述的三组线圈可连接三相交流电。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||