发明名称 蚀刻方法和用于形成蚀刻保护层的组合物
摘要 一种改善蚀刻衬底时蚀刻掩模耐蚀刻性的方法,该方法包括下述步骤:采用光致抗蚀剂在衬底上形成抗蚀剂图案,在形成的抗蚀剂图案上涂敷用于形成蚀刻保护层的组合物,通过加热在组合物与抗蚀剂之间形成不溶于含水显影溶液的蚀刻保护层,通过显影溶液除去除蚀刻保护层之外的组合物的不必要的部分,和采用在其上具有蚀刻保护层的抗蚀剂图案作为掩模对衬底进行蚀刻,其中,用于形成蚀刻保护层的组合物包含水溶性或水分散性树脂、交联剂以及作为溶剂的水和/或水溶性有机溶剂。
申请公布号 CN100478781C 申请公布日期 2009.04.15
申请号 CN02817955.2 申请日期 2002.09.04
申请人 AZ电子材料(日本)株式会社 发明人 田中初幸
分类号 G03F7/11(2006.01)I;G03F7/40(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I 主分类号 G03F7/11(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所 代理人 刘激扬
主权项 1.一种蚀刻衬底的方法,该方法包括下述步骤:采用光致抗蚀剂在衬底上形成抗蚀剂图案,在形成的抗蚀剂图案上涂敷用于形成蚀刻保护层的组合物,在所述用于形成蚀刻保护层的组合物与所述抗蚀剂之间的界面中形成不溶于含水显影剂的蚀刻保护层,通过所述含水显影剂除去所述用于形成蚀刻保护层的组合物的除所述蚀刻保护层之外的不必要的部分,和采用在其上具有所述蚀刻保护层的所述抗蚀剂图案作为掩模对所述衬底进行蚀刻,其中,上述用于形成蚀刻保护层的组合物包含至少一种含共聚物的水溶性或水分散性树脂、水溶性交联剂以及溶剂,所述共聚物为至少一种选自丙烯酸、甲基丙烯酸、乙烯醇、烯丙基胺或乙烯基甲基醚的单体与至少一种选自苯乙烯、羟基苯乙烯或N-乙烯基咔唑的单体的共聚物,所述水溶性交联剂为至少一种选自甲氧基甲基蜜胺、乙氧基甲基蜜胺、丙氧基甲基蜜胺、丁氧基甲基蜜胺、六羟甲基蜜胺、一羟甲基脲、二羟甲基脲、烷氧基亚甲基脲、N-烷氧基亚甲基脲、亚乙基脲、亚乙基脲甲酸、苯并胍胺或二醇联脲的交联剂,所述溶剂选自水或由水和水溶性有机溶剂组成的混合溶液,其中所述水溶性有机溶剂为至少一种选自C1-4脂肪醇、丙二醇单乙基醚、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸乙酯或N-甲基吡咯烷酮的有机溶剂。
地址 日本东京都