| 发明名称 | 用于极高分辨率图案形成的扫描EUV干涉成像 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于将图案写入到衬底上的系统和方法。产生第一和第二极紫外(EUV)辐射束。使用曝光单元以将第一和第二EUV辐射束投影到衬底上。第一和第二辐射束相互干涉，以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。 | ||
| 申请公布号 | CN101910951A | 申请公布日期 | 2010.12.08 |
| 申请号 | CN200880123284.6 | 申请日期 | 2008.12.23 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 亨利·塞维尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种器件制造方法，包括步骤：(a)产生第一和第二极紫外(EUV)辐射束；和(b)使用曝光单元以将所述第一和第二EUV辐射束投影到衬底上，使得所述第一和第二辐射束相互干涉，以在衬底的曝光场处曝光第一组平行线。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||