发明名称 |
排气处理的反应炉底座结构改良 |
摘要 |
本实用新型排气处理的反应炉底座结构改良,底座设于反应炉本体底部,该底座设有一环形盛水槽以及与该盛水槽相通的第一供水管,而该盛水槽外并设有一容置空间以及与该容置空间相通的第二供水管,该第一供水管可制造随该环形盛水槽形成螺旋状的水流,且该盛水槽设有一斜导边,该螺旋状水流可冲刷盛水槽中的粉尘后,并藉由该斜导边集中流出。 |
申请公布号 |
CN201629298U |
申请公布日期 |
2010.11.10 |
申请号 |
CN200920350379.3 |
申请日期 |
2009.12.25 |
申请人 |
华宣科技股份有限公司 |
发明人 |
田少郎 |
分类号 |
H01L21/00(2006.01)I;B01D46/30(2006.01)I;B01D46/12(2006.01)I;B01D47/02(2006.01)I;B01D47/06(2006.01)I;B01D53/74(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京申翔知识产权代理有限公司 11214 |
代理人 |
周春发;艾晶 |
主权项 |
一种排气处理的反应炉底座结构改良,该排气处理装置至少设有:入口洗气器、反应炉、出口洗气器、排气风扇以及水槽,该入口洗气器接收处理气体,并将该处理气体送入水槽,以去除处理气体所含有的粉尘或水溶性气体,而该反应炉至少设有一本体、一气体导入口以及一底座,该气体导入口与该气体通道一端连接用以将气体导入本体内,并经由底座输送至出口洗气器;其特征在于:该底座设于本体底部,该底座设有一环形盛水槽以及与该盛水槽相通的第一供水管,该第一供水管可制造随该环形盛水槽形成螺旋状的水流,且该盛水槽设有一斜导边,而该盛水槽外并设有一容置空间以及与该容置空间相通的第二供水管,该底座底部设有一第一、第二导出口,该第一导出口用以将盛水槽中气体输送至出口洗气器,而该第二导出口则将容置空间中的液体循环再利用。 |
地址 |
中国台湾新竹县竹北市东平里文兴路一段298号2楼 |