Structure of resistor with the resistance dependable on the applied voltage and method generating it

摘要

Sposób wytwarzania struktury rezystora o rezystancji zależnej od przyłożonego napięcia polega na tym, że na nieprzewodzące podłoże (3) nanosi się warstwę węglowo-palladową (1) w procesie fizycznego osadzania z fazy gazowej PVD, poprzez odparowanie fulerenu i octanu palladu w próżni. Na warstwie węglowo-palladowej (1) napyla się są elektrody tytanowe (2). Tak wytworzona struktura składa się z nieprzewodzącego podłoża (3) z naniesioną warstwą węglowo-palladową (1), na której napylone są elektrody tytanowe (2). Według odmiany sposobu na nieprzewodzące podłoże (3) napyla się elektrody tytanowe (2), a następnie nanosi się w procesie PVD warstwę węglowo-palladową (1). Tak wytworzona struktura składa się z nieprzewodzącego podłoża (3) z napylonymi elektrodami tytanowymi (2), na których naniesiona jest warstwa węglowo-palladowa (1).