一种WS₂固体润滑薄膜的制造方法

摘要

一种WS₂固体润滑薄膜的制造方法，采用磁过滤阴极真空弧沉积在金属材料基体的表面形成WS₂固体润滑薄膜，包括：金属材料基体的预处理；生成WS₂固体润滑薄膜，将所述金属材料基体放入真空室内并抽真空；通入Ar气，开启磁过滤阴极真空弧沉积装置的负偏压至-400V～-1000V，进行辉光放电，对金属材料基体表面进行清洗；以WS₂/Ag复合靶为靶材，使用所述磁过滤阴极真空弧沉积装置在所述金属材料基体表面进行WS₂/Ag膜层沉积，其中，所述磁过滤阴极真空弧沉积装置的弧压为20V～36V，负偏压为-100V～-800V，弧流为90A～100A，占空比为50～90％，沉积时间为1h；以及金属材料基体的封存。

主权项

一种WS₂固体润滑薄膜的制造方法，其特征在于，采用磁过滤阴极真空弧沉积在金属材料基体的表面形成WS₂固体润滑薄膜，包括如下步骤：S100、金属材料基体的预处理，对待加工的金属材料基体进行预处理，去除附着在所述金属材料基体表面的油脂、锈点和杂质；S200、生成WS₂固体润滑薄膜，进一步包括：S201、将所述金属材料基体放入真空室内并将所述真空室抽真空，所述真空室与磁过滤阴极真空弧沉积装置连接，所述磁过滤阴极真空弧沉积装置的磁过滤管直径为200mm，所述磁过滤管的弯管弧度为0°～90°，所述磁过滤管的磁场偏转电流为1.6A～2.2A；S202、通入Ar气使磁过滤阴极真空弧沉积装置的工作气压达到设定值5Pa‑10Pa，开启并将磁过滤阴极真空弧沉积装置的负偏压调整至‑400V～‑1000V进行辉光放电，通过离子轰击对所述金属材料基体表面进行溅射清洗；S203、以WS₂/Ag复合靶为靶材，使用所述磁过滤阴极真空弧沉积装置在所述金属材料基体表面进行WS₂/Ag膜层沉积，其中，所述磁过滤阴极真空弧沉积装置的弧压为20V～36V，负偏压为‑100V～‑800V，弧流为90A～100A，占空比为50～90％，沉积时间为1h；以及S300、金属材料基体的封存，将表面生成高耐磨WS₂固体润滑薄膜后的所述金属材料基体放入丙酮溶液中清洗后烘干，并将烘干后的所述金属材料基体真空密封封存。