| 主权项 |
一种基板处理装置，其为对基板进行处理者，其具备有：腔室，其具有形成腔室空间之腔室本体及腔室盖部，藉由上述腔室盖部将上述腔室本体之上部开口加以封闭，藉此将上述腔室空间加以密闭；腔室开闭机构，其使上述腔室盖部相对于上述腔室本体于上下方向进行相对的移动；基板保持部，其配置于上述腔室空间，且以水平状态将基板加以保持；基板旋转机构，其使上述基板与上述基板保持部一起以朝向上下方向之中心轴为中心进行旋转；护罩部，其以遍及全周之方式位于上述腔室之外侧，且形成侧方空间于上述腔室之外周，经由环状开口，而加以承接自进行旋转之上述基板所飞溅之处理液，而该环状开口系藉由使上述腔室盖部与上述腔室本体产生分离而形成于上述基板之周围；及处理液供给部，其于上述侧方空间内安装在上述腔室或上述护罩部，经由上述环状开口而朝向上述基板之上方进行移动且对上述基板上供给处理液，或者经由上述环状开口而对上述基板上供给处理液；在形成有上述环状开口之状态下，使上述护罩部与上述腔室盖部产生相接，藉此使上述腔室空间及上述侧方空间成为1个扩大密闭空间。 |
