发明名称 溅镀装置
摘要
申请公布号 TWI500794 申请公布日期 2015.09.21
申请号 TW101150099 申请日期 2012.12.26
申请人 佳能安内华股份有限公司 发明人 松村康晴;坂本怜士;森脇崇行
分类号 C23C14/34 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种溅镀装置,连续性搬运被接地之金属的带状基板至腔室内,对该带状基板进行溅镀,该溅镀装置之特征为具备:靶材保持器,其系被设置成与被搬运至上述腔室内之上述带状基板相向,用以保持靶材;电压施加部,其系藉由对上述靶材保持器施加电压,使上述腔室内产生电浆;磁铁单元,其系被配置在上述靶材保持器之与保持上述靶材之面相反侧上,具有长条状之第1磁铁,和配置成包围该第1磁铁之第2磁铁;及第1屏蔽,其系被设置在上述腔室中位于从上述磁铁单元朝向上述带状基板之方向的壁面和上述带状基板之间,遮蔽上述壁面以避开上述电浆,上述第1屏蔽成为浮动电位。
地址 日本