发明名称 | 化学机械抛光设备及方法 | ||
摘要 | 在一方面中,揭示基板抛光设备。设备具有抛光平台,抛光平台具有两个或更多个区域,每一区域适于含有不同的浆料组分。在另一方面中,提供基板抛光系统,系统具有用以托住基板的支架、具抛光垫的抛光平台和分配系统,分配系统适于按时序分配至少两种不同的浆料组分,浆料组分选自由氧化浆料组分、材料移除浆料组分和腐蚀抑制浆料组分所组成的群组。许多其它方面尚提供适于抛光基板的抛光方法和系统。 | ||
申请公布号 | CN104919575A | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
申请号 | CN201380070166.4 | 申请日期 | 2013.12.30 |
申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | R·巴贾杰;T·H·奥斯特赫尔德;H·陈;T·Y·李 |
分类号 | H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人 | 徐伟 |
主权项 | 一种基板抛光设备,包含:抛光平台,所述抛光平台具有两个或更多个区域,每一区域适于含有不同的浆料组分。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |