发明名称 光半导体元件
摘要 实施形态提供一种结晶缺陷之影响经抑制之高效率之光半导体元件。;实施形态之光半导体元件包含第1导电型之第1氮化物半导体层、第2导电型之第2氮化物半导体层、及设置于上述第1氮化物半导体层与上述第2氮化物半导体层之间之活性层。上述光半导体元件具有凹坑,该凹坑于上述活性层中具有始点,且沿自上述始点朝向上述第2氮化物半导体层之第1方向扩展。
申请公布号 TW201535783 申请公布日期 2015.09.16
申请号 TW103123046 申请日期 2014.07.03
申请人 东芝股份有限公司 KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 发明人 盐田伦也 SHIODA, TOMONARI;橘浩一 TACHIBANA, KOICHI
分类号 H01L33/36(2010.01) 主分类号 H01L33/36(2010.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP
您可能感兴趣的专利