基于图像处理的光刻系统和目标对象涂覆方法

摘要

公开了一种用于光刻系统的技术。根据本发明的一个实施方式，光刻系统包括：布置在基板上的至少一个目标对象；通过对至少一个目标对象执行图像处理来确定用于至少一个目标对象的涂覆层的光学图案的处理器；以及将具有由处理器确定的光学图案的光提供到基板的曝光装置。

主权项

一种光刻系统，所述光刻系统包括：至少一个目标对象，所述至少一个目标对象布置在基板上；处理器，所述处理器被构造为对所述目标对象的图像进行处理并且确定用于所述目标对象的涂覆层的光学图案；以及曝光设备，所述曝光设备被构造为将由所述处理器确定的所述光学图案提供到所述基板，其中，所述曝光设备包括：光源；以及空间光调制器，所述空间光调制器被构造为响应于由所述处理器提供的信号调制由所述光源提供的光，其中，所述光刻系统进一步包括：相机，所述相机被构造为捕获目标对象的图像并且将对应于捕获的目标对象的图像的电信号提供到所述处理器；以及分束器，所述分束器被构造为将由所述曝光设备提供的调制光发送到所述基板，并且将从所述基板发送的图像发送到所述相机。