| 摘要 |
<p>복수기판 처리장치를 개시한다. 챔버는 내부에 공정 공간을 갖는다. 기판지지대는 챔버 내에 설치되고, 상면에 중심 둘레를 따라 복수의 기판들이 안착되게 기판 안착부들을 구비한다. 샤워 헤드는 챔버 내에서 기판 지지대의 상측에 설치되고, 기판 안착부들에 안착된 기판들 중 적어도 하나의 기판 쪽으로 소스 가스를 분사하는 가스 분사부를 구비한다. 그리고, 기판 지지대와 샤워 헤드 중 적어도 어느 하나는 회전 가능하게 되고, 기판 안착부와 가스 분사부 사이의 간격은 기판 지지대의 중심으로부터 가장자리로 갈수록 좁아지게 설정된다. 따라서, 복수의 기판들에 박막을 균일한 두께로 증착할 수 있다.</p> |
