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发明名称
高電界を用いたナノポアの作製
摘要
膜にナノポアを作製するための方法が提供される。この方法は、膜にリーク電流を生じる電界を誘導するよう値が選択される電位を膜に印加する工程と、電位を印加しながら、膜を流れる電流を監視する工程と、膜でのリーク電流の突然の増加を検出する工程と、リーク電流の突然の増加が検出されたことに応答して、膜の電位を消失させる工程と、を含む。
申请公布号
JP2015525114(A)
申请公布日期
2015.09.03
申请号
JP20150510885
申请日期
2013.05.07
申请人
ジ ユニバーシティ オブ オタワ
发明人
ウィング ヘイ クォック;ヴィンセント タバード−コッサ;カイル アレキサンダー ザーケル ブリッグス
分类号
B01J19/08;B82Y40/00
主分类号
B01J19/08
代理机构
代理人
主权项
地址
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