微影装置及元件制造方法

主权项

一种曝光装置，其包含：一投影系统，其经组态以将复数个辐射光束投影至一目标上；一可移动框架，其至少可围绕一轴线而旋转；一致动器系统，其用以致使该可移动框架旋转；及一控制器，其用以调整该可移动框架之一位置，以至少部分地补偿该可移动框架之不平衡或另一可移动框架之不平衡。