发明名称 |
用于化学浴沉积之设备以及使用化学浴沉积于一基材上制作光伏装置之一材料层的方法;APPARATUS FOR CHEMICAL BATH DEPOSITION AND METHOD FOR MAKING A MATERIAL LAYER OF PHOTOVOLTAIC DEVICE ABOVE A SUBSTRATE USING CHEMICAL BATH DEPOSITION |
摘要 |
一种用于化学浴沉积之设备包括一壳体定义一化学槽、一循环导管、以及设置于化学槽内之至少一流动调整装置。化学槽具有位于一上表面上之一开口,且用以接受和固持至少一基材于其内。循环导管具有至少一部份于上述化学槽内,且用以供应至少一化学物于上述化学槽。上述至少一流动调整装置包括一涡轮机、一扩散器、一起泡器、或其结合。 |
申请公布号 |
TW201533780 |
申请公布日期 |
2015.09.01 |
申请号 |
TW103117265 |
申请日期 |
2014.05.16 |
申请人 |
台积太阳能股份有限公司 TSMC SOLAR LTD. |
发明人 |
蔡佩臻 TSAI, PEI CHEN |
分类号 |
H01L21/208(2006.01);H01L31/18(2006.01);C23C18/00(2006.01);H01L31/04(2014.01) |
主分类号 |
H01L21/208(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪澄文颜锦顺 |
主权项 |
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地址 |
台中市大雅区科雅西路5号 TW |