发明名称 卷取式真空处理装置
摘要
申请公布号 TWI498443 申请公布日期 2015.09.01
申请号 TW098136880 申请日期 2009.10.30
申请人 爱发科股份有限公司 发明人 广野贵启;多田勋
分类号 C23C16/02 主分类号 C23C16/02
代理机构 代理人 张耀晖 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项 一种卷取式真空处理装置,其包含:反应室,其可维持真空状态;辊型之第一电极,其可旋转地设置于该反应室内,藉此使与其接触之具可挠性的处理对象物旋转并使该处理对象物行进;气体供给单元,其具有第二电极,该第二电极系配置在该反应室内且与该第一电极相向,以供给处理气体在已接触该第一电极的该处理对象物及该第二电极之间;以及第三电极,其连接于交流电源,该第三电极配置在该反应室内且与未接触该处理对象物的部分的该第一电极以非接触方式相向,且在该第三电极与该第一电极之间外加交流电源所产生的交流电压;该第一电极系设置为朝向该第一电极之旋转轴方向延伸;该反应室具备隔板,用以将该反应室内区分为配置有该第二电极的室以及配置有该第三电极的室;配置有该第二电极的室内与配置有该第三电极的室内的各个压力可个别调整。
地址 日本