发明名称 曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
摘要
申请公布号 TWI497224 申请公布日期 2015.08.21
申请号 TW099128361 申请日期 2010.08.25
申请人 尼康股份有限公司 发明人 柴崎佑一
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 一种曝光装置,系透过投影光学系以能量束使物体上之复数个区划区域分别曝光,其具备:移动体,系保持该物体;位置测量系,具有对配置成与垂直于该投影光学系之光轴之既定平面略平行、一部分具有开口之测量面分别照射测量光束且设于该移动体之复数个读头,测量该移动体之位置资讯;以及控制系,系根据以该位置测量系测量之位置资讯控制该移动体之驱动,且在该移动体之驱动中,将用于该测量之一个读头切换为其他读头;该复数个读头中、在该既定平面内之第1方向分离之二个读头之距离,大于在该第1方向之该开口之宽度与一个该区划区域之该第1方向之宽度之和。
地址 日本