| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Transportsystem sowie eine Vakuumkammer in einer Anlage zum Behandeln von Substraten im Vakuum, wobei die Vakuumkammer das Transportsystem aufweist. Die Ausgestaltung des Transportsystems sowie die der Vakuumkammer zielen auf das Behindern oder Vermeiden einer Rückseitenbeschichtung beim Beschichten/Behandeln eines Substrates ab. Das Transportsystem (1) weist mehrere Transportwalzen (9) zum Transportieren zumindest teilweise in einer Transportrichtung (10) eines Substrates (2) auf, mindestens einen Gurt (13) sowie mindestens eine Blende (12), wobei die Blende (12) und der Gurt (13) ortsfest zu den Transportwalzen (9) angeordnet sind, wobei die Blende (12) zwischen den Transportwalzen (9) in der Transportrichtung (10) beim Transport des Substrates (2) bis an eine Rückseite (7) des Substrates (2) heranreichend derart ausgeführt ist, dass ein erster Spalt (15) zwischen der Blende (12) und der Rückseite (7) des Substrates (2) gebildet ist, wobei der Gurt (13) über mindestens eine Transportwalze (9) der mehreren Transportwalzen geführt ist und beim Transport des Substrates (2) die Rückseite (7) des Substrates (2) einen Teil des Gurtes (13) kontaktiert, wobei der Gurt (13) ferner in der Transportrichtung (10) neben der Blende (12) verlaufend so angeordnet ist, dass zwischen der Blende (12) und dem Gurt (13) ein zweiter Spalt (16) gebildet ist, sodass die Blende (12) und der Gurt (13) beim Transport des Substrates (2) gemeinsam mit der Rückseite (7) des Substrates (2) eine erste Schikane bilden.</p> |
