发明名称 基板处理装置
摘要
申请公布号 TWI493642 申请公布日期 2015.07.21
申请号 TW101130627 申请日期 2012.08.23
申请人 斯克林集团公司 发明人 前川直嗣
分类号 H01L21/67;H01L21/677 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种基板处理装置,其使基板浸渍于处理液中并对基板进行处理;上述装置包括有以下的要件:内槽,其用以储存处理液;外槽,其用以回收从上述内槽所溢出的处理液;升降机,其在相当于上述内槽上方的待机位置、与相当于上述内槽内部的处理位置之间与基板一起移动;循环配管,其连通地连接上述内槽与上述外槽,用以使处理液循环;循环控制手段,其在上述内槽、上述外槽、及上述循环配管储存有当升降机与基板一起位于处理位置的处理状态时,处理液会从上述内槽溢出至上述外槽,且当升降机与基板一起位于待机位置的非处理状态时,处理液不会从上述内槽溢出至上述外槽之量的处理液,而当升降机与基板一起移动至处理位置的非处理循环状态时,使处理液从上述内槽流通至上述外槽,并经由上述循环配管,进行处理液的循环;及开关阀,其被配设在上述内槽的侧壁,且被配设在较上述内槽的侧壁上缘更靠下方之高度位置处;上述循环控制手段在非处理循环状态时开放上述开关阀,在处理状态时关闭上述开关阀。
地址 日本