| 发明名称 | 一种真空镀膜装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种真空镀膜装置，包括腔体，所述的腔体内设置有探头、放置基片的模板、第一蒸发源和第二蒸发源；所述的腔体旁侧设置有气管；所述的气管与外部的真空泵连接；所述的第一蒸发源上设置有圆锥形的防护罩，本发明的有益效果是结构简单，使用方便，镀膜均匀，能够避免蒸渡过程中的交叉污染。 | ||
| 申请公布号 | CN104762596A | 申请公布日期 | 2015.07.08 |
| 申请号 | CN201410009010.1 | 申请日期 | 2014.01.06 |
| 申请人 | 天津普利爱特真空镀膜有限公司 | 发明人 | 吴军 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 天津市新天方有限责任专利代理事务所 12104 | 代理人 | 李桂英 |
| 主权项 | 一种真空镀膜装置，包括腔体（1），其特征在于：所述的腔体（1）内设置有探头（2）、放置基片的模板（5）、第一蒸发源（6）和第二蒸发源（7）；所述的腔体（1）旁侧设置有气管（3）；所述的气管（3）与外部的真空泵（4）连接；所述的第一蒸发源（6）上设置有圆锥形的防护罩（8）。 | ||
| 地址 | 300350 天津市津南区八里台镇建设四支路9号 | ||