发明名称 |
一种薄膜支撑梁的制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种薄膜支撑梁的制作方法,首先完成牺牲层的制作并图形化,之后在牺牲层表面淀积制备介质膜层和金属膜层,图形化金属膜层,在介质膜层和金属膜层上光刻并刻蚀出支撑梁图形,然后仅需要去除牺牲层即可得到薄膜支撑梁结构,这样可以制备出最小尺寸等于最小线宽的支撑梁,同时,该方法对光刻的套准精度要求比较低,减小了工艺难度。 |
申请公布号 |
CN104760925A |
申请公布日期 |
2015.07.08 |
申请号 |
CN201410007410.9 |
申请日期 |
2014.01.07 |
申请人 |
无锡华润上华半导体有限公司 |
发明人 |
荆二荣 |
分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B81C1/00(2006.01)I |
代理机构 |
无锡互维知识产权代理有限公司 32236 |
代理人 |
庞聪雅 |
主权项 |
一种薄膜支撑梁的制作方法,其特征在于,其包括:提供具有第一表面和第二表面的衬底;在所述衬底的第一表面涂覆牺牲层并且图形化;在所述牺牲层的外表面上淀积介质膜,形成介质膜层,并在所述介质膜层的外表面上淀积金属膜,形成金属膜层;图形化所述金属膜层,将所述金属膜层的图形化区域分为支撑梁部分的金属膜图形和非支撑梁部分的金属膜图形,此时所述支撑梁部分的金属膜图形的宽度大于最终的支撑梁图形的宽度,所述非支撑梁部分的金属膜图形的宽度等于最终的非支撑梁图形的宽度;在所述金属膜层和介质膜层上光刻和刻蚀出所述最终的支撑梁图形、最终的非支撑梁图形和最终介质膜层,此时所述最终介质膜层作为所述最终的支撑梁图形和最终的非支撑梁图形的支撑膜;去除牺牲层。 |
地址 |
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号 |