| 摘要 |
Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Plasmabehandlungsvorrichtung (100) bereitgestellt, aufweisend: eine Vakuumkammer (202); eine Transportvorrichtung zum Transportieren eines Substrats (120) durch einen Behandlungsbereich (110) in der Vakuumkammer (202), eine Anode (108) innerhalb des Behandlungsbereichs (110) zum Bereitstellen eines Plasmas in dem Behandlungsbereich (110); und eine den Behandlungsbereich begrenzende Gehäusestruktur (112), welche die Anode (108) von der Vakuumkammer (202) elektrisch abschirmt und mindestens eine Öffnung (112a, 112b) aufweist, wobei die Gehäusestruktur (112) und die Transportvorrichtung derart eingerichtet sind, dass das durch den Behandlungsbereich (110) transportierte Substrat (120) durch die mindestens eine Öffnung (112a, 112b) der Gehäusestruktur (112) hindurch in den Behandlungsbereich (110) hinein und/oder aus dem Behandlungsbereich (110) heraus transportiert werden kann. |
