用以制造平面显示器的曝光方法和光掩模

摘要

本发明公开了一种用以制造平面显示器的曝光方法，包括：提供基板，基板上具有未定义的一光致抗蚀剂层。接着，图案化光致抗蚀剂层，以形成初步图案层，初步图案层具有第一解析度。然后，图案化初步图案层，以形成完整图案层。完整图案层具有第二解析度，且第二解析度高于第一解析度。

主权项

一种用以制造平面显示器的曝光方法，包括：提供基板，该基板上具有未定义的光致抗蚀剂层；以初步成形光掩模在该光致抗蚀剂层上定义初步的图案，图案化该光致抗蚀剂层，以形成初步图案层，该初步图案层具有第一解析度；以细部修饰光掩模在该初步图案层上定义完整的图案，图案化该初步图案层，以形成一完整图案层，其中该细部修饰光掩模具有一图案，以于该初步图案层上移除对应该图案的部分，该初步成形光掩模上的图案与该细部修饰光掩模的图案不同，该完整图案层具有第二解析度，且该第二解析度高于该第一解析度。