发明名称 微影装置及侦测装置
摘要
申请公布号 TWI489220 申请公布日期 2015.06.21
申请号 TW099110206 申请日期 2010.04.01
申请人 ASML荷兰公司 发明人 尼可拉威 伊凡 史格哲维特;威瑞 玛堤恩 捷瑞德 多明尼哥
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种侦测装置,其包含:一侦测器,其具有一顶部表面;一闪烁材料层,其经设置于该侦测器之该顶部表面上;设置于该闪烁材料层上之一间隔材料层;及设置于该间隔材料层上之一光谱纯度滤光器层。
地址 荷兰
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