发明名称 半导体制造装置
摘要 本发明提供作业性与维护性优异的半导体制造装置。实施方式的半导体制造装置包括:第1搬送部,其将托盘自托盘收纳供给部取出并载置在搬送载体上,且将该搬送载体搬送至溅镀装置,该装置用于粘附电磁波屏蔽过程中使用的溅镀材料。该托盘收纳供给部收纳的托盘中搭载有未屏蔽的半导体封装,且该半导体封装主要负责进行电磁波屏蔽;及第2搬送部,其将载置有托盘的搬送载体自溅镀装置取出并搬送,且将托盘自搬送载体回收并收纳在托盘收纳供给部。该托盘内搭载有已完成电磁波屏蔽的半导体封装。
申请公布号 CN104716074A 申请公布日期 2015.06.17
申请号 CN201410751756.X 申请日期 2014.12.10
申请人 株式会社东芝 发明人 涩谷克则;井本孝志;本间庄一;渡部武志;高野勇佑
分类号 H01L21/67(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 张世俊
主权项 一种半导体制造装置,其特征在于包括:搬送部,其搬送托盘;及控制部,其控制所述搬送部;且所述控制部以如下方式进行控制:将被收纳的所述托盘取出并载置在搬送载体上,且将该搬送载体搬送至进行溅镀材料的附著的溅镀装置;并且将载置有所述托盘的所述搬送载体自所述溅镀装置取出并搬送,且将所述托盘自所述搬送载体回收并收纳。
地址 日本东京