发明名称 溅镀靶及其制造方法
摘要 本发明之溅镀靶系以氧化铟及氧化锌作为主成分,含有In2O3(ZnO)m(式中,m=2~7之整数)所表示之六方晶层状化合物,且含有Sn元素及Zr元素,Sn元素相对于全部金属元素之比率多于2000ppm且为20000ppm以下。
申请公布号 TW201522689 申请公布日期 2015.06.16
申请号 TW103135267 申请日期 2014.10.09
申请人 出光兴产股份有限公司 IDEMITSU KOSAN CO., LTD. 发明人 西村麻美 NISHIMURA, MAMI;大山正嗣 OHYAMA, MASASHI
分类号 C23C14/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本 JP